用途：

　　用于半導(dǎo)體、壓電晶體等行業(yè)的精密研磨和高級拋光；

特點：

　　1.自主研發(fā)高精度分級生產(chǎn)線，具備顆粒形態(tài)整齊均勻，并且各個批次粒度穩(wěn)定，并且粗粒被嚴格控制，減少對研磨拋光表面劃傷；

　　2.粒度形狀以等積狀為主；

　　3.PH值為中性；

　　4.微粉的流動性能好；

　　5.采取自主研發(fā)專利清質(zhì)技術(shù)、提純工藝，微粉具備高純度和清潔的結(jié)晶表面與研磨液適配性強。